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钝化膜理论--化学抛光机理的几种理论

发布时间:2020-08-11发布人:豫磨精饰

 
提出钝化膜理论的专业人士认为,金属在化学抛光液中的溶解(腐蚀)可作为电化学过程来看,由于金属表面各部分的物理和电化学性质的不均一性,使得金属表面上有许多电位不相同的部分,即金属表面存在着微观凸凹不平和或多或少的其他元素和杂质,使金属表面发生局部电位的高低不平,电位正的部分会发生还原反应,电位负的部分发生氧化反应,即形成了瞬时闭合原电池,产生腐蚀电流,当腐蚀电流密度达到相当高时,就有可能在金属表面上形成钝化膜,这种由腐蚀到钝化的过程与电抛光时的电流原电位曲线十分相似(见图,曲线的段为腐蚀过程,月兑段为钝化膜的形成过程,月段为在已形成的钝化膜内发生的抛光过程,在钝化膜内微观凸起部,由于反应活性高而被优先溶解,此一过程反复进行即可得到光亮的金属表面。
 
国内专业人士曾发现在化学抛光时,被抛光的金属表面上有肉眼看不到的氧化物形成,而且抛光时阳极的温度和电位都会急剧上升,抛光面的耐蚀性比未抛光的面有所提高。这些均表明抛光时抛光面的确易形成固相的钝化膜。
 
方景礼等开发的黄铜在混合液中的两步抛光法,第一步先在高浓度低浓度的溶液中进行氧化处理,使黄铜表面形成一层棕色氧化膜,然后在低浓度液中退去氧化膜,即可获得十分光亮的抛光表面。黄铜在第一步溶液中氧化的时间越长,氧化膜的颜色越深,氧化膜的厚度越厚,所得抛光面的光亮度越高。这表明,铜在遭受氧化处理时会形成氧化物型固体膜或钝化膜,此时金属的溶解是在紧密的氧化膜内进行的,使表面的各个部分均发生微观整平,这种表面的微观整平的最终结果,就使金属表面变得光亮。
 

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